Intel fertigt ersten funktionsfähigen 45-Nanometer-Chip

Der amerikanische Halbleiterhersteller Intel hat einen einsatzfähigen Chip mit Strukturen von 45 Nanometer entwickelt. Die mit der neuen Technik gefertigten Chips sollen den Stromverbrauch von mobilen Endgeräten senken und leistungsfähigere Betriebssysteme ermöglichen. Nach eigenen Angaben ist Intel das erste Unternehmen, das einen voll funktionsfähigen SRAM-Chip (Static Random Access Memory) unter Verwendung der neuen Prozesstechnologie angefertigt hat. Erste Serienmodelle mit der 45-Nanometer-Herstellungstechnik wollen die Amerikaner im kommenden Jahr auf 300-Millimeter-Wafern produzieren.

Der 45-Nanometer-SRAM-Chip mit einer Größe von 119 Quadratmillimetern und einer Kapazität von 153 MBit weist mit mehr als einer Milliarde Transistoren eine fast doppelt so hohe Transistordichte als heute übliche Chips auf. Durch die neue Produktionstechnik werde aber nicht nur die Herstellung von Chips mit mehr Transistoren, sondern auch von kleineren Chips möglich. Weitere Verbesserungen sind laut Intel eine Erhöhung der Schaltgeschwindigkeit um 20 Prozent oder alternativ eine Reduzierung des Stromverbrauchs beim Schalten um etwa 30 Prozent sowie der so gennanten Leckströme um 80 Prozent, was beispielsweise neuen UMTS-Handys zugute kommen könnte.

Entscheidende Hürde für Massenproduktion ist genommen

45-nm-Testchip Anhand des Testchips können die Entwickler die technische Kapazität und die Zuverlässigkeit kommerzieller Chips sowie den Ertrag aus dem Fertigungsverfahren prüfen. Damit sei die erste entscheidende Hürde auf dem Weg zur Massenproduktion der weltweit komplexesten Bauteile genommen, so Intel in einer heutigen Mitteilung. "Unsere 45-Nanometer-Technologie wird die Grundlage für PCs mit höherer Leistung pro Watt bilden, die Nutzung und Bedienerfreundlichkeit deutlich verbessern", erklärt Bill Holt, Vice President und General Manger der Intel Technology and Manufacturing Group. Mit dem neuen Herstellungsprozess ließen sich Chips anfertigen, die eine fünffach geringere Verlustleistung als heutige Chips aufweisen. Dies optimiere die Batterielebensdauer mobiler Geräte und schaffe die Voraussetzung dafür, kleinere und leistungsstärkere Plattformen zu entwickeln.

Zwar handelt es sich bei dem Chip noch um eine Testversion, doch Intel verfügt nach eigenen Angaben bereits über die nötigen Produktionstechnik. Neben der D1D-Fabrik in Oregon, wo die 45-Nanometer-Entwicklung bei Intel bereits im Gange sei, befänden sich laut dem Hersteller mit der Fab 32 in Arizona sowie der Fab 28 in Israel bereits zwei weitere Fabriken für die Herstellung von Chips unter Verwendung der 45-Nanometer-Fertigungstechnologie im Aufbau. Auch andere Chiphersteller wie etwa Hitachi, NEC oder Toshiba sitzen an der Entwicklung von 45-Nanometer-Modellen.

Wechsel auf 65-Nanometer-Prozesstechnik wurde gerade erst vollzogen

Intel hat gerade erst den Wechsel zur Prozessor-Produktion mit der 65-Nanometer-Technik vollzogen. 65-Nanometer-Chips stellt das Unternehmen mit Sitz in Santa Clara in zwei Fertigungsanlagen in Arizona und Oregon her, zwei weitere Produktionsstätten sollen noch in diesem Jahr in Irland und Oregon in Betrieb genommen werden. Die Einführung einer neuen Prozessgeneration im Turnus von zwei Jahren unterstreiche den Fokus des Unternehmens, die Chipentwicklung im Rahmen des Mooreschen Gesetzes weiter voranzutreiben, teilte Intel mit.